标准详细信息
表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 |
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| 标准编号：GB/T 20176-2025 | 标准状态： 即将实施 | 阅读打印版价格： 43.0 |
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标准简介
适用范围：
本文件详细说明了用标定的均匀掺杂物质（用注入硼的参考物质校准）确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×1016 atoms/cm3～1×1020 atoms/cm3。
标准编号：
GB/T 20176-2025标准名称：
表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度英文名称：
Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials标准状态：
即将实施发布日期：
2006-03-27实施日期：
2026-01-01出版语种：
中文简体
替代以下标准：
GB/T 20176-2006被以下标准替代：
引用标准：
ISO 5725-2,ISO 17560,ISO 18114采用标准：
采标名称：
《表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度》采标程度：
IDT
